２０１１年稅務（修訂）（第２號）條例草案刊憲
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　　《2011年稅務（修訂）（第2號）條例草案》（條例草案）今日（二月二十五日）刊憲。條例草案的主要目的，是落實2010-11年度政府財政預算案中就購買版權、註冊外觀設計及註冊商標的資本開支提供利得稅扣減的建議。

　　條例草案修訂《稅務條例》（第112章），以推行有關的扣稅建議和其他改善措施，包括：

＊　就購買版權、註冊外觀設計及註冊商標的資本開支提供扣稅，由購買年度開始，以直線法計算，連續五年按年扣除；

＊　取消現時適用於專利權及任何工業知識的權利的扣稅安排中「在香港使用」的規定，並把出售專利權及任何工業知識的權利時的須課稅售賣得益金額，由全數售賣得益減低至以先前已獲得的扣稅款額為上限。上述的改善措施亦會適用於版權、註冊外觀設計及註冊商標的扣稅建議；以及

＊　就扣稅建議及改善措施加入常用的反避稅條文。

　　財經事務及庫務局發言人說：「我們期望可以盡早實施條例草案內的扣稅建議及改善措施，以鼓勵企業更廣泛運用知識產權、促進創新和改進，並推動香港的創意產業發展。」

　　條例草案將於三月九日提交立法會。

完

２０１１年２月２５日（星期五）
香港時間１１時３４分